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首頁(yè)-產(chǎn)品系統(tǒng)--納米壓印設(shè)備-GL150/300 CLIV紫外納米壓印光刻設(shè)備
產(chǎn)品型號(hào)：
簡(jiǎn)要描述：GL150/300 CLIV紫外納米壓印光刻設(shè)備產(chǎn)能可大于40片每小時(shí)，適合DOE、AR/VR衍射光波導(dǎo)（包括斜齒光柵）、線(xiàn)光柵偏振、超透鏡、生物芯片、LED、微透鏡陣列等應(yīng)用領(lǐng)域的量產(chǎn)。
廠(chǎng)家實(shí)力
Manufacturer Strength
有效保修
Valid Warranty
質(zhì)量保障
Quality Assurance產(chǎn)品中心
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詳細(xì)介紹
GL150/300 CLIV紫外納米壓印光刻設(shè)備主要功能
● 全自動(dòng)150/300mm大面積、高精度、高深寬比納米壓印生產(chǎn)線(xiàn)
●CLIV技術(shù)，確保壓印結(jié)構(gòu)精度與結(jié)構(gòu)填充完整性
●Cassette to cassette自動(dòng)上下片，光學(xué)巡邊預(yù)對(duì)位
●設(shè)備內(nèi)自動(dòng)復(fù)制柔性復(fù)合工作模具，同時(shí)支持自動(dòng)更換工作模具，適合連續(xù)生產(chǎn)
●自動(dòng)對(duì)位、自動(dòng)壓印、自動(dòng)曝光固化、自動(dòng)脫模，工藝過(guò)程在密閉潔凈環(huán)境中自動(dòng)進(jìn)行，以保證壓印質(zhì)量
●標(biāo)配高功率紫外LED面光源（365nm，光強(qiáng)>1000mW/cm2 ），水冷冷卻，特殊功率以及特殊、混合波長(zhǎng)光源可訂制，支持各種商用納米壓印材料
●產(chǎn)能可大于40片每小時(shí)，適合DOE、AR/VR衍射光波導(dǎo)（包括斜齒光柵）、線(xiàn)光柵偏振、超透鏡、生物芯片、LED、微透鏡陣列等應(yīng)用領(lǐng)域的量產(chǎn)
●隨機(jī)提供全套納米壓印工藝與材料，包括DOE、AR斜齒光柵、高密度、高深寬比結(jié)構(gòu)等工藝流程，幫助客戶(hù)零門(mén)檻達(dá)到國(guó)際的納米壓印水平
| 兼容基底尺寸 | GL150 CLIV：2inch、3inch、100mm、150mm GL300 CLIV：200mm、300mm 特殊尺寸可定制 |
| 支持基底材料 | 硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等 |
| 上下片方式 | Cassette to cassette全自動(dòng)上下片 |
| 晶圓預(yù)對(duì)位 | 光學(xué)巡邊預(yù)對(duì)位 |
| 納米壓印技術(shù) | CLIV技術(shù)，適合高精度、高深寬比納米結(jié)構(gòu)壓印 |
| 壓印精度 | 優(yōu)于10納米* |
| 結(jié)構(gòu)深寬比 | 優(yōu)于10比1* |
| 殘余層控制 | 可小于10nm* |
| 紫外固化光源 | 紫外LED（365nm）面光源，光強(qiáng)>1000mW/cm2，水冷冷卻（2000mW/cm2類(lèi)型光源可選配） |
| 設(shè)備內(nèi)部環(huán)境控制 | 標(biāo)配，外部環(huán)境Class 100，內(nèi)部環(huán)境可達(dá)Class 10* |
| 自動(dòng)壓印 | 支持 |
| 自動(dòng)脫模 | 支持 |
| 自動(dòng)工作模具復(fù)制 | 支持 |
| 自動(dòng)工作模具更換 | 支持 |
| 模具基底對(duì)位功能 | 自動(dòng)對(duì)位（選配） |
| 產(chǎn)能 | 可大于40片每小時(shí)* |
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